Influence of rapid thermal treatment of the gate dielectric on the parameters of power field МОSFЕТ transistors
Приведены результаты исследований влияния быстрой термической обработки подзатворного диэлектрика на параметры мощных p - и n -канальных MOSFET транзисторов. Установлено, что данная обработка позволяет за счет улучшения зарядовых и структурных свойств диэлектрика уменьшить токи утечки затвора и повы...
Saved in:
| Main Authors: | , , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Educational institution «Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics»
2019-06-01
|
| Series: | Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/1018 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|