极紫外掩模的同步辐射在波长高分辨成像仿真研究
极紫外（Extreme Ultraviolet，EUV）光刻要求近乎无缺陷的EUV掩模，需要对EUV掩模缺陷进行高分辨率的在波长成像分析，分析结果用于后续的修复工艺。同步辐射可以提供优质、洁净的EUV光，结合傅里叶合成照明技术，可有效合成较大的数值孔径（Numerical Aperture，NA），实现对EUV掩模缺陷的高分辨分析，该技术已在多个国际同步辐射装置上得到广泛应用。受限于传统圆形波带片数值孔径特性，国际上EUV掩模检测的最高分辨率仅达到22 nm。为了进一步提升成像分辨率，提出了采用椭圆形波带片替代常规的圆形波带片设想，并进行了系统性仿真研究。计算结果表明，椭圆形波带片数值孔径可达...
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| Main Authors: | , , , , , , , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | zho |
| Published: |
Science Press
2025-04-01
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| Series: | He jishu |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://www.sciengine.com/doi/10.11889/j.0253-3219.2025.hjs.48.240151 |
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