KAJIAN VARIASI SUHU ANNEALING DAN HOLDING TIME PADA PENUMBUHAN LAPISAN TIPIS BaZr0,15Ti0,85O3 DENGAN METODE SOL GEL
<p>Penumbuhan lapisan tipis BaZr<sub>0,15</sub>Ti<sub>0,85</sub>O<sub>3</sub><strong> </strong>telah dilakukan menggunakan metode <em>sol gel</em> di atas substrat Pt/Si yang disiapkan dengan <em>spin coater</em>. Penumbuh...
Saved in:
| Main Authors: | , , , , , , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Universitas Negeri Semarang
2014-06-01
|
| Series: | Jurnal MIPA |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://journal.unnes.ac.id/nju/index.php/JM/article/view/2957 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Summary: | <p>Penumbuhan lapisan tipis BaZr<sub>0,15</sub>Ti<sub>0,85</sub>O<sub>3</sub><strong> </strong>telah dilakukan menggunakan metode <em>sol gel</em> di atas substrat Pt/Si yang disiapkan dengan <em>spin coater</em>. Penumbuhan lapisan tipis menggunakan variasi suhu <em>annealing</em> 800<sup>0</sup>C dan 900<sup>0</sup>C, dan variasi waktu tahan (<em>holding time</em>) 3 jam dan 4 jam dengan kecepatan putar 4000 rpm. Hasil karakterisasi XRD menunjukkan, seiring dengan bertambahnya waktu tahan menunjukkan bertambahnya intensitas yang semakin tinggi. Hal ini menandakan tingkat kekristalan makin tinggi. Namun, dengan penambahan suhu <em>annealing</em> maka intensitas semakin kecil. Setelah dilakukan penghalusan menggunakan metode <em>Rietveld </em>dengan program GSAS, parameter kisi lapisan tipis BaZr<sub>0,15</sub>Ti<sub>0,85</sub>O<sub>3 </sub>semakin besar dengan bertambahnya suhu <em>annealing</em> dan waktu tahan serta memiliki struktur kristal tetragonal. <em>Partikel size</em> yang didapat dengan formula Scherer semakin besar seiring dengan bertambahnya suhu <em>annealing</em> dan waktu tahan. Hal ini juga ditunjukkan dari SEM, ukuran butir semakin besar seiring dengan bertambahnya suhu <em>annealing</em>, akan tetapi pada varisi suhu <em>annealing</em> ukuran butir tidak dapat ditentukan.</p><p> </p> Thin Films BaZr0,15Ti0,85O3 have deposited on Pt/Si substrate by using sol gel method that was prepared by using spin coater. Deposition of thin films applies by using annealing temperatures in 8000C and 9000C, while the holding time was 3 and 4 hours and the rotation speed was 4000 rpm.The XRD characterization results show that the x-ray intensity increases along with the increasing of its holding time therefore it indicates that the crystallinity level is higher. Meanwhile the x-ray intensity decreases along with the increasing of annealing temperature. The refinement results using the Rietveld method with the GSAS program show that the thin films BaZr0.15Ti0.85O3 have tetragonal crystal structure and its lattice parameter value increases along with the increasing of its annealing temperature and holding time. Particle size obtained by Scherer formula was increasing along with the increasing of the annealing temperature and holding time. It was also shown from the SEM characterization results that the particle size increased along with the increasing of the annealing temperature but the grain size variation cannot determined. |
|---|---|
| ISSN: | 0215-9945 |