磁性固位种植总义齿的应力分析 - 魏素华; 米乃元; 李 彦; 顾学甫 (Zhongshan Daxue xuebao. Yixue kexue ban)
【目的】了解磁性固位的下颌种植覆盖义齿的应力状况及其分布规律, 为磁性固位体的临床应用提供生物力学 依据。【方法】采用二维光弹应力分析法, 分析圆柱形种植体在垂直向和侧向加载条件下种植体— 骨界面的应力状况。【结 果】种植体应力主要为均匀分布的压应力, 最大应力位于种植体根尖部, 颈部应力相对较小, 未见明显弯曲应力。【结论】磁 性固位种植义齿的种植体应力分布符合生物力学要求, 有利于种植体的长期成功。